快速升温法制备CdS纳米带的生长机理研究
来源期刊：无机材料学报2006年第6期
论文作者：姚连增 陶锋 蔡维理 刘伟丰 王志俊
关键词：CdS; 纳米带; 生长机理;
摘 要：在无任何催化剂的条件下,采用快速升温法在单晶硅衬底上制备了高质量的、形貌均匀的CdS纳米带.X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和场发射扫描电镜(FESEM)分析显示,纳米带属六方单晶结构,生长方向为[001].讨论了纳米带形成的机理,认为CdS纳米带状六方结构的形成,主要是由于生长速度的各向异性及在沉积区具有较低的过饱和度和较高的沉积温度等因素导致.
姚连增1，陶锋1，蔡维理1，刘伟丰1，王志俊1
(1.中国科学技术大学材料科学与工程系,合肥,230026)
摘要:在无任何催化剂的条件下,采用快速升温法在单晶硅衬底上制备了高质量的、形貌均匀的CdS纳米带.X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和场发射扫描电镜(FESEM)分析显示,纳米带属六方单晶结构,生长方向为[001].讨论了纳米带形成的机理,认为CdS纳米带状六方结构的形成,主要是由于生长速度的各向异性及在沉积区具有较低的过饱和度和较高的沉积温度等因素导致.
关键词:CdS; 纳米带; 生长机理;
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