哈氏合金电化学抛光工艺的研究
来源期刊:材料导报2017年第2期
论文作者:王毅 王盼 索红莉 贾强 卢东琪 李怀洲 吴海明
文章页码:37 - 40
关键词:表面粗糙度;哈氏合金;电化学抛光;原子力显微镜;
摘 要:采用环保型抛光液对离子束辅助沉积技术路线用哈氏合金HastelloyC-276基带进行了电化学抛光,获得了典型的阳极极化曲线,并阐述了电化学抛光的机理。研究了影响电化学抛光的因素(电解液温度、抛光时间、抛光极距)对基带表面粗糙度的影响,优化工艺参数获得了表面粗糙度Ra<5nm(5μm×5μm)的高质量表面,满足后续生长过渡层对哈氏合金基带的要求。抛光液中的柠檬酸在50℃左右分解成络合剂,可迅速沉淀金属离子,提高表面的活性。
王毅1,王盼1,索红莉1,贾强1,卢东琪1,李怀洲2,吴海明1
1. 北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室2. 首都航天机械公司
摘 要:采用环保型抛光液对离子束辅助沉积技术路线用哈氏合金HastelloyC-276基带进行了电化学抛光,获得了典型的阳极极化曲线,并阐述了电化学抛光的机理。研究了影响电化学抛光的因素(电解液温度、抛光时间、抛光极距)对基带表面粗糙度的影响,优化工艺参数获得了表面粗糙度Ra<5nm(5μm×5μm)的高质量表面,满足后续生长过渡层对哈氏合金基带的要求。抛光液中的柠檬酸在50℃左右分解成络合剂,可迅速沉淀金属离子,提高表面的活性。
关键词:表面粗糙度;哈氏合金;电化学抛光;原子力显微镜;