阶段占空比对ZrH1.8表面微弧氧化陶瓷层性能的影响
来源期刊：无机材料学报2020年第10期
论文作者：杨少辉 闫淑芳 李世江 陈伟东 杜培 马文
文章页码：1112 - 1116
关键词：微弧氧化;氢化锆;占空比;陶瓷层;
摘 要：为了提高氢化锆表面微弧氧化陶瓷层的致密性及阻氢性能,采用恒压模式对氢化锆基体进行微弧氧化处理,在磷酸盐电解液体系下,研究阶段占空比分别为40%-50%-60%、50%-60%-40%和60%-50%-40%三种情况下陶瓷层的生长过程。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、膜层测厚仪分析陶瓷层的形貌、相结构及厚度;通过真空脱氢实验评价不同阶段占空比模式下获得陶瓷层的阻氢性能。研究结果表明:不同阶段占空比模式下在Zr H1.8表面可制得厚度分别为162.6、175.9、158.7μm的氧化锆陶瓷层,且所制微弧氧化陶瓷层均由M-Zr O2、T-Zr O2以及Zr0.95Ce0.05O2三种物相组成,阶段占空比对陶瓷层物相组成无显著影响;阶段占空比为40%-50%-60%条件下,氢化锆表面所制陶瓷层厚度达到162.6μm,氢渗透降低因子（Permeation Reduction Factor,PRF）达到12.5,阻氢性能较佳。
杨少辉1，闫淑芳1,2，李世江1，陈伟东1,2，杜培1，马文1,2
1. 内蒙古工业大学材料科学与工程学院2. 内蒙古工业大学内蒙古自治区薄膜与涂层重点实验室
摘 要：为了提高氢化锆表面微弧氧化陶瓷层的致密性及阻氢性能,采用恒压模式对氢化锆基体进行微弧氧化处理,在磷酸盐电解液体系下,研究阶段占空比分别为40%-50%-60%、50%-60%-40%和60%-50%-40%三种情况下陶瓷层的生长过程。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、膜层测厚仪分析陶瓷层的形貌、相结构及厚度;通过真空脱氢实验评价不同阶段占空比模式下获得陶瓷层的阻氢性能。研究结果表明:不同阶段占空比模式下在Zr H1.8表面可制得厚度分别为162.6、175.9、158.7μm的氧化锆陶瓷层,且所制微弧氧化陶瓷层均由M-Zr O2、T-Zr O2以及Zr0.95Ce0.05O2三种物相组成,阶段占空比对陶瓷层物相组成无显著影响;阶段占空比为40%-50%-60%条件下,氢化锆表面所制陶瓷层厚度达到162.6μm,氢渗透降低因子（Permeation Reduction Factor,PRF）达到12.5,阻氢性能较佳。
关键词：微弧氧化;氢化锆;占空比;陶瓷层;
