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离子色谱-膜去溶-ICP-MS法测定高纯钨粉中痕量金属杂质

来源期刊:分析试验室2009年第1期

论文作者:李艳芬 刘英 童坚

文章页码:104 - 106

关键词:痕量元素;高纯钨粉;离子色谱;阳离子交换柱;膜去溶装置;电感耦合等离子体质谱;

摘    要:灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用H2O2溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HNO3洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90%~107%之间,检出限在0.001~0.5μg/g之间。

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离子色谱-膜去溶-ICP-MS法测定高纯钨粉中痕量金属杂质

李艳芬,刘英,童坚

摘 要:灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用H2O2溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱,经水淋洗后,用HNO3洗脱,洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B,V,Sb外,其它杂质元素如Mg,Al,Ti,Cr,Be,Fe,Mn,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,Sr,Cd,Ba等的回收率均在90%~107%之间,检出限在0.001~0.5μg/g之间。

关键词:痕量元素;高纯钨粉;离子色谱;阳离子交换柱;膜去溶装置;电感耦合等离子体质谱;

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