气源流量对所制备Me-DLC膜性能的影响
来源期刊:稀有金属与硬质合金2008年第1期
论文作者:聂君兰 谷坤明 汤皎宁 麦达宇 樊璠
文章页码:34 - 37
关键词:Me-DLC膜;ECR溅射镀膜;磁控溅射;气源流量;
摘 要:介绍了一种新型的DLC膜制备方法——ECR(电子回旋共振)微波等离子体气相沉积结合磁控溅射的方法。采用该法通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiN/TiN(N,C)中间层结构的碳薄膜。研究了制备时不同气源流量对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能等的影响。
聂君兰,谷坤明,汤皎宁,麦达宇,樊璠
摘 要:介绍了一种新型的DLC膜制备方法——ECR(电子回旋共振)微波等离子体气相沉积结合磁控溅射的方法。采用该法通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiN/TiN(N,C)中间层结构的碳薄膜。研究了制备时不同气源流量对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能等的影响。
关键词:Me-DLC膜;ECR溅射镀膜;磁控溅射;气源流量;