SrBi2Ta2O9铁电薄膜的三阶非线性光学性能的研究
来源期刊：功能材料与器件学报2006年第5期
论文作者：顾豪爽 王忠太 陈侃松 徐利
关键词：SrBi2Ta2O9; 铁电薄膜; 磁控溅射; Z-scan; 三阶光学非线性;
摘 要：采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的SrBi2Ta2O9(SBT)薄膜,根据透射谱计算表明薄膜样品厚度为349nm,线性折射率为3.05.以锁模Nd:YAG激光器作为光源,利用Z-scan技术测定了薄膜的非线性光学性能.结果表明薄膜的非线性折射率n2＝2.56×10-8esu,非线性光吸收系数β＝3.93×10-4 esu,其三阶非线性极化率的实部和虚部分别为:Reχ(3)＝8.29×10-9 esu和Imχ(3)＝1.08×10-9 esu.
顾豪爽1，王忠太1，陈侃松1，徐利1
(1.湖北大学,物理学与电子技术学院,武汉,430062)
摘要:采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的SrBi2Ta2O9(SBT)薄膜,根据透射谱计算表明薄膜样品厚度为349nm,线性折射率为3.05.以锁模Nd:YAG激光器作为光源,利用Z-scan技术测定了薄膜的非线性光学性能.结果表明薄膜的非线性折射率n2＝2.56×10-8esu,非线性光吸收系数β＝3.93×10-4 esu,其三阶非线性极化率的实部和虚部分别为:Reχ(3)＝8.29×10-9 esu和Imχ(3)＝1.08×10-9 esu.
关键词:SrBi2Ta2O9; 铁电薄膜; 磁控溅射; Z-scan; 三阶光学非线性;
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