电感耦合等离子体质谱法测定高纯氮化硅粉体中痕量元素
来源期刊:理化检验-化学分册2012年第10期
论文作者:徐鸿志 陈志伟 刘东武 魏晓兵 王英
文章页码:1134 - 1136
关键词:电感耦合等离子体质谱法;高纯氮化硅粉;痕量元素;
摘 要:高纯氮化硅粉体样品用氢氟酸、硝酸进行微波消解处理,采用电感耦合等离子体质谱法测定所得样品溶液中18种痕量元素的含量。选用合适的同位素和干扰校正方程消除了被测元素的干扰。方法的检出限(3s)在5.2~20.8pg.g-1之间。方法用于高纯氮化硅粉体样品中痕量元素的测定,加标回收率在89.2%~105.2%之间,相对标准偏差(n=6)小于10%。
徐鸿志,陈志伟,刘东武,魏晓兵,王英
山东理工大学分析测试中心
摘 要:高纯氮化硅粉体样品用氢氟酸、硝酸进行微波消解处理,采用电感耦合等离子体质谱法测定所得样品溶液中18种痕量元素的含量。选用合适的同位素和干扰校正方程消除了被测元素的干扰。方法的检出限(3s)在5.2~20.8pg.g-1之间。方法用于高纯氮化硅粉体样品中痕量元素的测定,加标回收率在89.2%~105.2%之间,相对标准偏差(n=6)小于10%。
关键词:电感耦合等离子体质谱法;高纯氮化硅粉;痕量元素;