简介概要

电感耦合等离子体质谱法测定高纯氮化硅粉体中痕量元素

来源期刊:理化检验-化学分册2012年第10期

论文作者:徐鸿志 陈志伟 刘东武 魏晓兵 王英

文章页码:1134 - 1136

关键词:电感耦合等离子体质谱法;高纯氮化硅粉;痕量元素;

摘    要:高纯氮化硅粉体样品用氢氟酸、硝酸进行微波消解处理,采用电感耦合等离子体质谱法测定所得样品溶液中18种痕量元素的含量。选用合适的同位素和干扰校正方程消除了被测元素的干扰。方法的检出限(3s)在5.2~20.8pg.g-1之间。方法用于高纯氮化硅粉体样品中痕量元素的测定,加标回收率在89.2%~105.2%之间,相对标准偏差(n=6)小于10%。

详情信息展示

电感耦合等离子体质谱法测定高纯氮化硅粉体中痕量元素

徐鸿志,陈志伟,刘东武,魏晓兵,王英

山东理工大学分析测试中心

摘 要:高纯氮化硅粉体样品用氢氟酸、硝酸进行微波消解处理,采用电感耦合等离子体质谱法测定所得样品溶液中18种痕量元素的含量。选用合适的同位素和干扰校正方程消除了被测元素的干扰。方法的检出限(3s)在5.2~20.8pg.g-1之间。方法用于高纯氮化硅粉体样品中痕量元素的测定,加标回收率在89.2%~105.2%之间,相对标准偏差(n=6)小于10%。

关键词:电感耦合等离子体质谱法;高纯氮化硅粉;痕量元素;

<上一页 1 下一页 >

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号