不同缓冲层对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

来源期刊：功能材料与器件学报2012年第2期

论文作者：肖立娟 李长山 郝嘉伟 赵鹤平

文章页码：138 - 141

关键词：AZO薄膜;缓冲层;晶体结构;光电性能;

摘    要：本文采用射频反应磁控溅射法在玻璃基底上分别以Al2O3和AZO为缓冲层制备ZnO:Al（AZO）薄膜,利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、紫外-可见分光光度计等方法对薄膜的结构和光电性能进行表征。XRD和SEM的分析结果表明,在Al2O3和AZO缓冲层上生长的AZO薄膜均具有较好的C轴择优取向,薄膜表面光滑平整,薄膜的结晶质量得到改善;透射光谱表明所有样品在可见光范围内的透过率均超过80%;薄膜的导电性能得到提高。