真空硅热还原法制备金属锶
来源期刊：有色金属(冶炼部分)2012年第7期
论文作者：邹兴武 王树轩 杨占寿 王舒娅 祁米香
文章页码：53 - 56
关键词：真空硅热还原;锶;工艺;
摘 要：采用真空硅热还原法制备了纯度达98%～99%的金属锶。研究了还原温度、保温时间、制团压力、硅铁过量系数、反应物粒度等对锶还原率的影响。结果表明,在下述最佳工艺条件下,即真空度在0～100Pa,硅铁过量30%,制团压力30MPa,还原温度1 250℃,保温2.5h,锶还原率可达57%,XRD和XRF分析表明,渣相主要物相为2SrO.SiO2和SrO.SiO2的混合物,且2SrO.SiO2占绝大部分。
邹兴武1,2，王树轩1，杨占寿1，王舒娅1，祁米香1
1. 中科院青海盐湖研究所2. 中国科学院研究生院
摘 要：采用真空硅热还原法制备了纯度达98%～99%的金属锶。研究了还原温度、保温时间、制团压力、硅铁过量系数、反应物粒度等对锶还原率的影响。结果表明,在下述最佳工艺条件下,即真空度在0～100Pa,硅铁过量30%,制团压力30MPa,还原温度1 250℃,保温2.5h,锶还原率可达57%,XRD和XRF分析表明,渣相主要物相为2SrO.SiO2和SrO.SiO2的混合物,且2SrO.SiO2占绝大部分。
关键词：真空硅热还原;锶;工艺;
