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溅射靶材用高纯钌粉制备技术研究及进展

来源期刊:贵金属2017年第S1期

论文作者:赵盘巢 郭磊 陈家林 操齐高 易伟

文章页码:12 - 17

关键词:钌靶;钌粉;氯钌酸铵;

摘    要:电子工业生产钌靶对所用的钌粉纯度(99.999%)、分散性、形貌和尺寸等有严格的要求。国内目前只能在实验室制备出高性能的钌粉,尚未应用于生产,在制备高性能钌粉方面与国外有较大差距,且国内钌靶用钌粉主要依靠进口。通过分析和总结了国内外钌靶用钌粉的生产方法、工艺和测试方法,并对国内钌靶用钌粉的制备提出了建议。

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溅射靶材用高纯钌粉制备技术研究及进展

赵盘巢1,2,郭磊1,陈家林1,操齐高2,易伟1

1. 昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室2. 西北有色金属研究院

摘 要:电子工业生产钌靶对所用的钌粉纯度(99.999%)、分散性、形貌和尺寸等有严格的要求。国内目前只能在实验室制备出高性能的钌粉,尚未应用于生产,在制备高性能钌粉方面与国外有较大差距,且国内钌靶用钌粉主要依靠进口。通过分析和总结了国内外钌靶用钌粉的生产方法、工艺和测试方法,并对国内钌靶用钌粉的制备提出了建议。

关键词:钌靶;钌粉;氯钌酸铵;

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