铝阳极氧化膜模板组装铜纳米线及其TEM表征
来源期刊：材料科学与工艺2003年第3期
论文作者：姚素薇 迟广俊 范君 王宏智 张卫国
关键词：电沉积; 透射电子显微镜; 模板合成; 铜纳米线;
摘 要：为了研究纳米线的微观结构,通过电化学交流电沉积的方法,以多孔阳极氧化铝膜(Al2O3/Al)为模板,制备了金属铜纳米线,利用透射电子显微及选区电子衍射技术对纳米线进行了表征,并从电化学角度探讨了铜纳米线凸凹相间条纹结构的形成机理.研究表明:铜纳米线具有凸凹的条纹结构,平均长度约为4 μm,直径20 nm;铜纳米线具有面心立方(FCC)的多晶结构,其凸、凹部位具有相同的物相组成.
姚素薇1，迟广俊1，范君2，王宏智1，张卫国1
(1.天津大学,化工学院,天津,300072;
2.鞍山钢铁集团公司长甸医院,辽宁,鞍山,114000)
摘要:为了研究纳米线的微观结构,通过电化学交流电沉积的方法,以多孔阳极氧化铝膜(Al2O3/Al)为模板,制备了金属铜纳米线,利用透射电子显微及选区电子衍射技术对纳米线进行了表征,并从电化学角度探讨了铜纳米线凸凹相间条纹结构的形成机理.研究表明:铜纳米线具有凸凹的条纹结构,平均长度约为4 μm,直径20 nm;铜纳米线具有面心立方(FCC)的多晶结构,其凸、凹部位具有相同的物相组成.
关键词:电沉积; 透射电子显微镜; 模板合成; 铜纳米线;
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