等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论
来源期刊:兵器材料科学与工程2000年第2期
论文作者:徐可为 马胜利
关键词:等离子体化学气相沉积; 硬质膜; 成膜理论;
摘 要:PCVD硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了PCVD硬质膜的成膜理论、特点,讨论了等离子体引入化学气相沉积过程中所带来的一些变化,给出了现阶段PCVD成膜理论研究的现状、存在问题及发展趋势.
徐可为1,马胜利1
(1.西安交通大学)
摘要:PCVD硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了PCVD硬质膜的成膜理论、特点,讨论了等离子体引入化学气相沉积过程中所带来的一些变化,给出了现阶段PCVD成膜理论研究的现状、存在问题及发展趋势.
关键词:等离子体化学气相沉积; 硬质膜; 成膜理论;
【全文内容正在添加中】