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铑(Ⅲ)离子印迹聚合物的制备及其作为吸附材料的应用探索

来源期刊:贵金属2014年第1期

论文作者:陶晋飞 杨赟金 李承蹊 熊杰 刘鹏 曹秋娥

文章页码:12 - 18

关键词:冶金物理化学;铑;离子印迹聚合物;分子印迹技术;吸附分离;

摘    要:以RhCl63-为模板,丙稀酰胺(AM)为功能单体,甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)为交联剂,采用分子印迹技术合成了一系列铑离子印迹聚合物(ⅡPs);研究了聚合条件和聚合方法对ⅡPs吸附性能的影响。结果发现,在模板、功能单体和交联剂的加入摩尔比为1:2:40时,用沉淀聚合法制备的铑离子印迹聚合物(ⅡP2)具有较高的吸附容量和最好的印迹效果。该印迹聚合物不仅可重复多次使用,而且在Rh(Ⅲ)与Pd(Ⅱ)、Pt(Ⅳ)、Ru(Ⅲ)、Ir(Ⅳ)、Cu(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)及Fe(Ⅲ)之间的吸附选择性系数均在10以上,将其作为吸附材料用于分离富集添加了Rh(Ⅲ)的河水样品中的Rh(Ⅲ),回收率在90%左右,相对标准偏差在5.0%以下。

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铑(Ⅲ)离子印迹聚合物的制备及其作为吸附材料的应用探索

陶晋飞1,杨赟金1,2,李承蹊1,熊杰1,刘鹏1,曹秋娥1

1. 云南大学化学科学与工程学院2. 昆明冶金研究院

摘 要:以RhCl63-为模板,丙稀酰胺(AM)为功能单体,甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)为交联剂,采用分子印迹技术合成了一系列铑离子印迹聚合物(ⅡPs);研究了聚合条件和聚合方法对ⅡPs吸附性能的影响。结果发现,在模板、功能单体和交联剂的加入摩尔比为1:2:40时,用沉淀聚合法制备的铑离子印迹聚合物(ⅡP2)具有较高的吸附容量和最好的印迹效果。该印迹聚合物不仅可重复多次使用,而且在Rh(Ⅲ)与Pd(Ⅱ)、Pt(Ⅳ)、Ru(Ⅲ)、Ir(Ⅳ)、Cu(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)及Fe(Ⅲ)之间的吸附选择性系数均在10以上,将其作为吸附材料用于分离富集添加了Rh(Ⅲ)的河水样品中的Rh(Ⅲ),回收率在90%左右,相对标准偏差在5.0%以下。

关键词:冶金物理化学;铑;离子印迹聚合物;分子印迹技术;吸附分离;

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