甘氨酸-Mg3Al水滑石的制备、剥离以及与蒙脱土的插层组装
来源期刊:材料研究学报2014年第2期
论文作者:马小茜 周景龙 卢楠 吴旭 谢鲜梅
文章页码:100 - 106
关键词:无机非金属材料;甘氨酸;Mg 3 Al水滑石;剥离;蒙脱土;插层组装;
摘 要:用共沉淀法制备甘氨酸(简称Gly)插层Mg3Al水滑石(简称Gly-Mg3Al LDHs),利用甘氨酸等电点的性质实现了Mg3Al水滑石在pH=34水溶液中的剥离,并将剥离出的LDHs纳米片层与蒙脱土进行插层组装,制备出Mg3Al水滑石/蒙脱土层状复合材料。用X射线粉末衍射、红外光谱、N2吸附-脱附以及电泳仪等手段对样品进行了表征。结果表明,制备出的GlyMg3Al LDHs结构规整,晶相单一,甘氨酸以42°的倾角排列于水滑石层间。在nGly∶nNO3-=1∶2的条件下制备的Gly-Mg3Al LDHs剥离效果最好,剥离后形成的无机聚合粒子的zeta电位介于35 mV40 mV之间,剥离液可以稳定存在72 h。所得层状复合材料的层间距为1.44nm,此值为单元LDHs片层与单元蒙脱土片层的厚度之和,证明LDHs纳米片层与蒙脱土进行了有序交叉叠层。
马小茜,周景龙,卢楠,吴旭,谢鲜梅
太原理工大学化学化工学院
摘 要:用共沉淀法制备甘氨酸(简称Gly)插层Mg3Al水滑石(简称Gly-Mg3Al LDHs),利用甘氨酸等电点的性质实现了Mg3Al水滑石在pH=34水溶液中的剥离,并将剥离出的LDHs纳米片层与蒙脱土进行插层组装,制备出Mg3Al水滑石/蒙脱土层状复合材料。用X射线粉末衍射、红外光谱、N2吸附-脱附以及电泳仪等手段对样品进行了表征。结果表明,制备出的GlyMg3Al LDHs结构规整,晶相单一,甘氨酸以42°的倾角排列于水滑石层间。在nGly∶nNO3-=1∶2的条件下制备的Gly-Mg3Al LDHs剥离效果最好,剥离后形成的无机聚合粒子的zeta电位介于35 mV40 mV之间,剥离液可以稳定存在72 h。所得层状复合材料的层间距为1.44nm,此值为单元LDHs片层与单元蒙脱土片层的厚度之和,证明LDHs纳米片层与蒙脱土进行了有序交叉叠层。
关键词:无机非金属材料;甘氨酸;Mg 3 Al水滑石;剥离;蒙脱土;插层组装;