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碳化硼薄膜制备的研究进展

来源期刊：材料导报2008年增刊第3期

论文作者：廖志君伍登学范强

关键词：碳化硼; 薄膜; 性能; 制备方法; boron carbide; thin film; properties; fabrication method;

摘要：综述了碳化硼材料的主要性能和制备碳化硼薄膜的主要方法,讨论了包括磁控溅射、离子束沉积和化学气相沉积等制备方法的优点及重要工艺参数,并就各方法指出了提高薄膜性能的主要措施,指出制备出更均匀、致密的碳化硼薄膜,提高薄膜与基体间的结合力,降低薄膜应力仍是今后研究的重点.

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廖志君¹，伍登学¹，范强¹

(1.四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室,成都,610064)

摘要:综述了碳化硼材料的主要性能和制备碳化硼薄膜的主要方法,讨论了包括磁控溅射、离子束沉积和化学气相沉积等制备方法的优点及重要工艺参数,并就各方法指出了提高薄膜性能的主要措施,指出制备出更均匀、致密的碳化硼薄膜,提高薄膜与基体间的结合力,降低薄膜应力仍是今后研究的重点.

关键词:碳化硼; 薄膜; 性能; 制备方法; boron carbide; thin film; properties; fabrication method;

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