碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析

来源期刊：稀有金属材料与工程2016年第12期

论文作者：闫国庆 陈洋 吴明 彭家庆 王力军

文章页码：3302 - 3305

关键词：氢化锆;阻氢渗透层;碳酰胺;XPS;AES;

摘    要：采用碳酰胺高温分解产生含C、O、N源与氢化锆原位反应制备阻氢渗透层,借助俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）等手段对阻氢渗透层元素成分及深度、键态进行分析。AES结果表明:氢化锆表面原位反应层由C、N、O、Zr元素组成,随溅射时间增加,O、Zr元素含量增加,C、N元素含量降低。原位反应层厚度约3.4μm,其中含N、C层深度约150 nm。氢化锆表面阻氢渗透层XPS分析表明,表面层存在ZrO₂,同时有Zr-OH、Zr-N、C-H、N-H键。氢在扩散过程中被C、O、N捕获表明含C、O、N的氢化锆表面原位反应层对氢的渗透有一定的阻碍作用。