薄膜厚度对YBCO超导薄膜微结构及临界电流密度的影响
来源期刊：功能材料与器件学报2007年第4期
论文作者：左长明 路胜博 邹春梅 姬洪 催旭梅
关键词：YBCO薄膜; 微结构; 晶格常数C; φ扫描; 倒易空间; 临界电流密度; 摇摆曲线;
摘 要：用MOD方法在LAO基片上沉积不同厚度的YBCO薄膜.用X射线衍射仪对这一系列样品进行表征分析,研究随着薄膜厚度的增加微结构的变化及临界电流密度的变化.X射线衍射分析发现YBCO薄膜取向度随薄膜厚度的增加,在800nm时取得最佳值之后又随厚度增加由强变弱.晶格常数c随着膜厚的增加而增大.本研究对这一系列样品进行了φ扫描分析和摇摆曲线半高宽的计算,并对800nm的YBCO薄膜做了倒易空间图谱分析,实验结果发现800nm的YBCO薄膜晶化比较好.本研究还分析了薄膜厚度对YBCO薄膜临界电流密度的影响.
左长明1，路胜博1，邹春梅1，姬洪1，催旭梅1
(1.电子科技大学,微电子与固体电子学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054)
摘要:用MOD方法在LAO基片上沉积不同厚度的YBCO薄膜.用X射线衍射仪对这一系列样品进行表征分析,研究随着薄膜厚度的增加微结构的变化及临界电流密度的变化.X射线衍射分析发现YBCO薄膜取向度随薄膜厚度的增加,在800nm时取得最佳值之后又随厚度增加由强变弱.晶格常数c随着膜厚的增加而增大.本研究对这一系列样品进行了φ扫描分析和摇摆曲线半高宽的计算,并对800nm的YBCO薄膜做了倒易空间图谱分析,实验结果发现800nm的YBCO薄膜晶化比较好.本研究还分析了薄膜厚度对YBCO薄膜临界电流密度的影响.
关键词:YBCO薄膜; 微结构; 晶格常数C; φ扫描; 倒易空间; 临界电流密度; 摇摆曲线;
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