Fex-C1-x/Si颗粒膜的巨磁电阻效应
来源期刊：稀有金属2006年第4期
论文作者：章晓中 薛庆忠
关键词：磁电阻; 碳膜; 硅;
摘 要：利用激光脉冲沉积(PLD)方法制备了沉积于硅基片上的掺杂过渡金属的非晶碳膜结构Fex-C1-x/Si.Fex-C1-x/Si的磁电阻(MR)可正可负,随温度而变化.当温度T＜258 K时,Fe0.011-C0.989/Si的MR为负值;当258 K＜T＜340 K时,该材料的MR为正值,在室温磁场为1 T时,该材料的正MR可以大于20%.且在不同的温度范围中,该材料的MR和外加磁场的依存关系呈现出不同的特点:在T=280和300 K时,当磁场小于1 T时,MR随磁场的增加而快速增加,之后随磁场的继续增加MR增加开始变得缓慢;在T=350 K时,MR近似以磁场的B1.5的规律变化;而在T=30 K时,MR为负值且其大小随磁场的增加而减小.利用双通道模型对该MR效应进行了初步解释.
摘要：利用激光脉冲沉积(PLD)方法制备了沉积于硅基片上的掺杂过渡金属的非晶碳膜结构Fex-C1-x/Si.Fex-C1-x/Si的磁电阻(MR)可正可负,随温度而变化.当温度T＜258 K时,Fe0.011-C0.989/Si的MR为负值;当258 K＜T＜340 K时,该材料的MR为正值,在室温磁场为1 T时,该材料的正MR可以大于20%.且在不同的温度范围中,该材料的MR和外加磁场的依存关系呈现出不同的特点:在T=280和300 K时,当磁场小于1 T时,MR随磁场的增加而快速增加,之后随磁场的继续增加MR增加开始变得缓慢;在T=350 K时,MR近似以磁场的B1.5的规律变化;而在T=30 K时,MR为负值且其大小随磁场的增加而减小.利用双通道模型对该MR效应进行了初步解释.
关键词：磁电阻; 碳膜; 硅;
Abstract:
Key words:
