氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响

姜金龙^1,2，陈娣¹，王琼¹，杨华¹，魏智强¹

1. 兰州理工大学2. 中国科学研究院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室

摘 要：通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜。采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构。结果显示:制备的薄膜为非晶碳（a-C:Si:H）包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响。随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加。氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C（H）/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-（Ti+Ti*）/C-C强度比明显增加。

关键词：Ti-Si-C纳米复合薄膜;氩离子溅射刻蚀;X射线光电子能谱;键合结构;