电化学和sol-gel法结合制备Cu-SiO2薄膜——不同pH值CuSO4硅溶胶中Cu的电化学行为
来源期刊：材料保护2014年第7期
论文作者：陈应龙 辜敏
文章页码：4 - 104
关键词：Cu-SiO2凝胶薄膜;电化学法;溶胶-凝胶法;循环伏安法;计时安培法;电沉积;电结晶;
摘 要：研究金属或半导体在溶胶中的电化学行为对电化学和溶胶-凝胶（sol-gel）法结合制备掺杂金属和半导体的复合凝胶薄膜有极大指导意义。用循环伏安（CV）和计时安培（CA）法研究了电化学和sol-gel法结合制备Cu-SiO2凝胶薄膜时不同pH值CuSO4硅溶胶中Cu在玻碳电极上的电沉积和电结晶行为。结果表明:在pH=1.03.0的CuSO4硅溶胶中,Cu2+的扩散系数在pH=2.0时最小,pH=1.0时较pH=3.0时大,这也是造成硅溶胶中pH=2.0时还原最难,pH=3.0时次之,pH=1.0时最易的原因;Cu在硅溶胶中的电沉积为Langmuir型吸附-三维瞬时成核机理;硅溶液中Cu2+的传递系数均大于0.9,存在吸附层;Cu2+在吸附过程的总放电量Qads随pH值增大而增大;Cu的成核数密度都随电位增大而增大,随pH值增大而减小,故pH值在1.03.0内越大越不利于制备Cu-SiO2薄膜。
陈应龙1,2,3，辜敏1,2
1. 煤矿灾害动力学与控制国家重点实验室(重庆大学)2. 复杂煤气层瓦斯抽采国家地方联合工程实验室(重庆大学)3. 重庆大学化学化工学院
摘 要：研究金属或半导体在溶胶中的电化学行为对电化学和溶胶-凝胶（sol-gel）法结合制备掺杂金属和半导体的复合凝胶薄膜有极大指导意义。用循环伏安（CV）和计时安培（CA）法研究了电化学和sol-gel法结合制备Cu-SiO2凝胶薄膜时不同pH值CuSO4硅溶胶中Cu在玻碳电极上的电沉积和电结晶行为。结果表明:在pH=1.03.0的CuSO4硅溶胶中,Cu2+的扩散系数在pH=2.0时最小,pH=1.0时较pH=3.0时大,这也是造成硅溶胶中pH=2.0时还原最难,pH=3.0时次之,pH=1.0时最易的原因;Cu在硅溶胶中的电沉积为Langmuir型吸附-三维瞬时成核机理;硅溶液中Cu2+的传递系数均大于0.9,存在吸附层;Cu2+在吸附过程的总放电量Qads随pH值增大而增大;Cu的成核数密度都随电位增大而增大,随pH值增大而减小,故pH值在1.03.0内越大越不利于制备Cu-SiO2薄膜。
关键词：Cu-SiO2凝胶薄膜;电化学法;溶胶-凝胶法;循环伏安法;计时安培法;电沉积;电结晶;
