Nd₂Fe₁₄B图形化点阵的微磁学模拟

来源期刊：磁性材料及器件2017年第3期

论文作者：张军 马建春 武国兴 薛金辉

文章页码：1 - 21

关键词：Nd₂Fe₁₄B;图形化点阵;微磁学;矫顽力;

摘    要：以微磁学理论为基础,详细研究了厚度不变,尺寸和间距的变化对Nd₂Fe₁₄B图形化点阵磁性能和磁反转过程的影响。结果显示,当点阵厚度（20 nm）和间距（30 nm）保持不变,随着点阵半径的增大,矫顽力和交换作用能降低,静磁能逐渐增大,磁化过程由一致反转的单畴态过渡到非一致反转的多畴态;保持点阵厚度（20 nm）和点阵半径（30 nm）不变,随着点阵间距的增大,磁耦合相互作用减弱,矫顽力逐渐增大,当间距增大到40⁵0 nm时,磁耦合相互作用基本消失,矫顽力基本不再发生变化。