离子束溅射制备立方C-N化合物
来源期刊：金属学报2000年第11期
论文作者：王天生 李林 何巨龙 田永君 李东春 于栋利
关键词：C-N化合物; 离子束溅射;
摘 要：用氮离子束分别原位溅射Ti和石墨靶的方法制备了CNx/TiNy多层膜.用X射线光电子谱分析CNx层中C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明,CNx层中主要有N-sp2C和N-sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的C-N化合物尺寸为10-60 nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定,证实了该薄膜中存在立方C3N4化合物
王天生1，李林2，何巨龙1，田永君1，李东春1，于栋利1
(1.燕山大学材料科学与化学工程学院,秦皇岛,066004;
2.中国科学院物理研究所,北京,100080)
摘要:用氮离子束分别原位溅射Ti和石墨靶的方法制备了CNx/TiNy多层膜.用X射线光电子谱分析CNx层中C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明,CNx层中主要有N-sp2C和N-sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的C-N化合物尺寸为10-60 nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定,证实了该薄膜中存在立方C3N4化合物
关键词:C-N化合物; 离子束溅射;
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