简介概要

硅片清洗及最新发展

来源期刊：中国稀土学报2003年增刊第1期

论文作者：刘红艳闫志瑞万关良

关键词：硅片; 硅片清洗; 硅片表面微观状态;

摘要：对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述.介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗等最新的硅片清洗技术, 指出了硅片清洗工艺的发展趋势.

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刘红艳¹，闫志瑞¹，万关良¹

(1.北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司,北京,100088)

摘要:对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述.介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗等最新的硅片清洗技术, 指出了硅片清洗工艺的发展趋势.

关键词:硅片; 硅片清洗; 硅片表面微观状态;

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