超高真空磁控溅射法沉积铀薄膜及其表面状态
来源期刊：材料保护2009年第12期
论文作者：黄火根 陈秋云 罗丽珠 赖新春 谭世勇 蒋春丽
关键词：磁控溅射; 铀薄膜; 膜表面状态; magnetron sputtering; uranium film; surface morphology;
摘 要：铀薄膜有助于原子参数的测试研究,目前对铀薄膜研究的报道较少.利用超高真空磁控溅射法在单晶Si片上制备了铀薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)对铀薄膜的表面形貌进行了观察,利用X射线光电子能谱仪(XPS)及X射线衍射仪(XRD)对铀薄膜的表面结构及元素状态进行了分析和表征.结果表明:铀薄膜呈片状式生长,比较致密、连续,表面由铀及氧化铀组成,之下为纯铀.
黄火根1，陈秋云1，罗丽珠1，赖新春1，谭世勇1，蒋春丽1
(1.表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907)
摘要:铀薄膜有助于原子参数的测试研究,目前对铀薄膜研究的报道较少.利用超高真空磁控溅射法在单晶Si片上制备了铀薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)对铀薄膜的表面形貌进行了观察,利用X射线光电子能谱仪(XPS)及X射线衍射仪(XRD)对铀薄膜的表面结构及元素状态进行了分析和表征.结果表明:铀薄膜呈片状式生长,比较致密、连续,表面由铀及氧化铀组成,之下为纯铀.
关键词:磁控溅射; 铀薄膜; 膜表面状态; magnetron sputtering; uranium film; surface morphology;
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