热压烧结碳化硅陶瓷的氧化性能

李龙¹，曾燮榕¹，唐汉玲³，熊信柏¹，邹继兆³

(1.深圳大学材料科学与工程学院,广东深圳,518060;
2.深圳市特种功能材料重点实验室,广东深圳,518060;
3.西北工业大学材料科学与程学院,陕西西安,710072)

摘要:采用硅作为烧结助剂热压烧结SiC陶瓷,用扫描电镜、X射线衍射仪和热重分析仪研究了不同状态SiC陶瓷的氧化性能.结果表明:未预处理SiC在等温氧化过程中,600～1 100℃区间内,等温氧化动力学曲线服从抛物线规律;而在1 100～1 300℃区间,则偏离了抛物线规律,氧化速率随温度的升高先增大后减小.经过高温预氧化处理之后,SiC试样在等温氧化过程中,氧化动力学曲线为直线,较未预处理试样氧化增重显著减少;连续升温氧化过程中,和未预处理试样相比,剧烈氧化开始温度升高,同时其氧化速率及最终的氧化增重均大幅度降低.说明了高温预氧化处理能够有效提高SiC陶瓷的抗氧化性能.

关键词:SiC陶瓷; 等温氧化; 非等温氧化;

【全文内容正在添加中】