高压密闭消解-钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中硅
来源期刊：中国无机分析化学2017年第4期
论文作者：陈晓东 麦丽碧 许洁瑜 肖红新
文章页码：69 - 72
关键词：高压密闭消解;钴铬烤瓷合金;硅;分光光度法;
摘 要：在HNO3-HCl-HF混酸中高压密闭消解,采用钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中的硅量。研究了酸体系、消解时间及共存离子对硅测定的影响。方法用于已知样品的测定,相对标准偏差小于3%（n=11）,加标回收率为98.9%101%。方法精密度高、准确度好,能够满足钴铬烤瓷合金中硅含量测定的要求。
陈晓东，麦丽碧，许洁瑜，肖红新
摘 要：在HNO3-HCl-HF混酸中高压密闭消解,采用钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中的硅量。研究了酸体系、消解时间及共存离子对硅测定的影响。方法用于已知样品的测定,相对标准偏差小于3%（n=11）,加标回收率为98.9%101%。方法精密度高、准确度好,能够满足钴铬烤瓷合金中硅含量测定的要求。
关键词：高压密闭消解;钴铬烤瓷合金;硅;分光光度法;
