简介概要

辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

来源期刊：冶金分析2004年增刊第1期

论文作者：张林春吴则嘉张毅杨晟远刘晓晗陈英颖

关键词：辉光放电; 光谱法; 掺杂; 纳米硅薄膜;

摘要：介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

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张林春¹，吴则嘉¹，张毅²，杨晟远¹，刘晓晗¹，陈英颖²

(1.上海维安新材料研究中心有限公司,上海,200082;
2.宝山钢铁股份有限公司技术中心,上海,201900)

摘要:介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

关键词:辉光放电; 光谱法; 掺杂; 纳米硅薄膜;

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