低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究
来源期刊：稀有金属材料与工程2017年第3期
论文作者：张宽翔 彭寿 姚婷婷 曹欣 金克武 徐根保
文章页码：818 - 823
关键词：直流射频耦合磁控溅射;AZO薄膜;工作压强;绒面;
摘 要：采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝（AZO,2%Al2O3,质量分数）陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10-4Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10-4Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。
张宽翔1,2，彭寿1,2，姚婷婷1,2，曹欣1,2，金克武1,2，徐根保1,2
2. 蚌埠玻璃工业设计研究院
摘 要：采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝（AZO,2%Al2O3,质量分数）陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10-4Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10-4Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。
关键词：直流射频耦合磁控溅射;AZO薄膜;工作压强;绒面;
