磁控溅射沉积透明导电薄膜的结构及光电特性研究
来源期刊：上海金属2003年第5期
论文作者：黄佳木 董建华
关键词：射频磁控溅射; ZAO薄膜; 结构; 光电特性;
摘 要：采用射频磁控溅射工艺、以氧化锌铝陶瓷靶为靶材制备透明导电ZAO薄膜,系统研究了各工艺参数,如工作气压、温度、射频功率和退火条件对其结构和光电特性的影响.在纯氩气中且补底温度为300℃时制备的ZAO薄膜经热处理后电阻率降至8.7×10-4Ωcm,可见光透过率在85%以上.X射线衍射谱扫描电镜照片表明ZAO晶粒具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.
黄佳木1，董建华1
(1.重庆大学材料科学与工程系,重庆,400045)
摘要:采用射频磁控溅射工艺、以氧化锌铝陶瓷靶为靶材制备透明导电ZAO薄膜,系统研究了各工艺参数,如工作气压、温度、射频功率和退火条件对其结构和光电特性的影响.在纯氩气中且补底温度为300℃时制备的ZAO薄膜经热处理后电阻率降至8.7×10-4Ωcm,可见光透过率在85%以上.X射线衍射谱扫描电镜照片表明ZAO晶粒具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.
关键词:射频磁控溅射; ZAO薄膜; 结构; 光电特性;
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