简介概要

磁头表面超薄DLC保护层厚度测量研究

来源期刊：材料工程2006年增刊第1期

论文作者：刘义为施元李山丹谢小强张化宇

关键词：超薄类金刚石; 厚度; XPS; AES; TEM;

摘要：研究了测量磁头表面超薄DLC薄膜和Si中间层厚度的方法,所用的设备有:AES,XPS,TEM.研究结果显示,XPS和AES测量的结果较为吻合,TEM的结果则存在较大差异.在TEM高分辩像下无法分清DLC和Si层,并对AES,XPS和TEM结果产生差异的原因进行了分析.

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刘义为¹，施元²，李山丹¹，谢小强²，张化宇²

(1.东莞新科材料科学实验室,广东,东莞,523087;
2.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001)

摘要:研究了测量磁头表面超薄DLC薄膜和Si中间层厚度的方法,所用的设备有:AES,XPS,TEM.研究结果显示,XPS和AES测量的结果较为吻合,TEM的结果则存在较大差异.在TEM高分辩像下无法分清DLC和Si层,并对AES,XPS和TEM结果产生差异的原因进行了分析.

关键词:超薄类金刚石; 厚度; XPS; AES; TEM;

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