钛阳极磁控溅射钽的工艺研究
来源期刊：材料保护2004年第10期
论文作者：潘建跃 孙凤梅 罗启富
关键词：磁控溅射; 钽膜; 涂层钛阳极; 工艺;
摘 要：涂层钛阳极在使用中会因氧化而失效.为了开发新型的涂层钛阳极,进行了磁控溅射钽作钛阳极底层的研究.通过改变溅射功率、氩气压力及溅射时间,对不同工艺条件下沉积的钽膜进行了分析.用XRD分析了溅射层的成分及相结构;通过SEM,AFM观察了钽膜的微观形貌和颗粒尺寸;用拉开法测定了钽膜的附着力.综合分析了影响钽膜质量的因素,推荐磁控溅射3～4靘钽膜的优化工艺为:功率100～130 W,氩气压力0.1～0.3 Pa,溅射时间45～50 min.钽膜作为底层可提高二氧化铅阳极的使用寿命40倍以上.
潘建跃1，孙凤梅2，罗启富3
(1.镇江市特种合金材料厂,江苏,镇江,212006;
2.南京信息职业技术学院微电子系,江苏,南京,210013;
3.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013)
摘要:涂层钛阳极在使用中会因氧化而失效.为了开发新型的涂层钛阳极,进行了磁控溅射钽作钛阳极底层的研究.通过改变溅射功率、氩气压力及溅射时间,对不同工艺条件下沉积的钽膜进行了分析.用XRD分析了溅射层的成分及相结构;通过SEM,AFM观察了钽膜的微观形貌和颗粒尺寸;用拉开法测定了钽膜的附着力.综合分析了影响钽膜质量的因素,推荐磁控溅射3～4靘钽膜的优化工艺为:功率100～130 W,氩气压力0.1～0.3 Pa,溅射时间45～50 min.钽膜作为底层可提高二氧化铅阳极的使用寿命40倍以上.
关键词:磁控溅射; 钽膜; 涂层钛阳极; 工艺;
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