纳米晶NiO薄膜的电化学沉积及其光学性能研究
来源期刊：功能材料2017年第4期
论文作者：吴朝晖 甘小燕 杜湘军 刘克永
文章页码：4105 - 4109
关键词：NiO;电化学沉积;微观结构;光学特性;
摘 要：以Ni（NO3）2水溶液为沉积液,采用阴极电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了纳米晶NiO薄膜。通过X射线衍射、紫外-可见光透过谱等手段表征薄膜结晶性、表面微观形貌以及光学特性。结果表明,沉积电位以及沉积时间均对电化学沉积法薄膜沉积过程存在重要影响。在优化条件下（沉积电压为-0.9V、沉积时间为25min）,所获薄膜致密均一,无裂纹,对可见光的透过率高达85%。
吴朝晖1,2，甘小燕2,3，杜湘军2，刘克永2
2. 武汉理工大学材料学院3. 武汉理工大学汽车工程学院
摘 要：以Ni（NO3）2水溶液为沉积液,采用阴极电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了纳米晶NiO薄膜。通过X射线衍射、紫外-可见光透过谱等手段表征薄膜结晶性、表面微观形貌以及光学特性。结果表明,沉积电位以及沉积时间均对电化学沉积法薄膜沉积过程存在重要影响。在优化条件下（沉积电压为-0.9V、沉积时间为25min）,所获薄膜致密均一,无裂纹,对可见光的透过率高达85%。
关键词：NiO;电化学沉积;微观结构;光学特性;
