化学气相沉积传质现象的研究与反应器设计、工艺参数的优化
来源期刊:材料导报2000年第3期
论文作者:郑修麟 鄢君辉 赵康 刘正堂
关键词:化学气相沉积; 传质现象; 沉积速率;
摘 要:介绍了化学气相沉积(CVD)中的传质现象研究的最新进展,从传质方程的建立到边界条件确定都进行了详细的介绍,并举例说明了数值分析的结果对反应器设计与工艺参数的优化的指导作用.
郑修麟1,鄢君辉1,赵康2,刘正堂1
(1.西北工业大学材料科学与工程学院,西安,710072;
2.西安理工大材料学院,西安,710048)
摘要:介绍了化学气相沉积(CVD)中的传质现象研究的最新进展,从传质方程的建立到边界条件确定都进行了详细的介绍,并举例说明了数值分析的结果对反应器设计与工艺参数的优化的指导作用.
关键词:化学气相沉积; 传质现象; 沉积速率;
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