简介概要

羟基自由基在菱镁矿界面的吸附特性模拟

来源期刊:有色金属(选矿部分)2020年第4期

论文作者:马飞 曹云霄 王志强 李国锋

文章页码:70 - 75

关键词:DMOL~3;菱镁矿;吸附能;态密度;解离面;

摘    要:为明确水中脉冲放电产生的羟基自由基(·OH)在菱镁矿解离面的吸附特性,本文采用Materials Studio软件对菱镁矿(211)解离面进行态密度分析,选择菱镁矿(211)解离面中Mg原子的顶位,建立·OH吸附模型。模拟结果表明,菱镁矿与·OH之间的吸附能为-4.381eV,·OH可吸附在菱镁矿(211)解离面上。

详情信息展示

羟基自由基在菱镁矿界面的吸附特性模拟

马飞1,曹云霄2,王志强1,李国锋1

1. 大连理工大学电气工程学院2. 沈阳环境科学研究院

摘 要:为明确水中脉冲放电产生的羟基自由基(·OH)在菱镁矿解离面的吸附特性,本文采用Materials Studio软件对菱镁矿(211)解离面进行态密度分析,选择菱镁矿(211)解离面中Mg原子的顶位,建立·OH吸附模型。模拟结果表明,菱镁矿与·OH之间的吸附能为-4.381eV,·OH可吸附在菱镁矿(211)解离面上。

关键词:DMOL~3;菱镁矿;吸附能;态密度;解离面;

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号