SiO2包覆的羟基磷灰石纳米粒子的制备与性能研究
来源期刊:功能材料2012年第11期
论文作者:王洪新 陈晓明 王友法 程东霁
文章页码:1434 - 2879
关键词:羟基磷灰石;表面修饰;正硅酸乙酯;纳米粒子;
摘 要:采用正硅酸乙酯(TEOS)水解法在羟基磷灰石粉体表面包覆SiO2进行表面改性,并通过扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、红外(FT-IR)、zeta电位和沉降实验等对样品的晶体结构、颗粒形貌进行了表征,结果表明涂层厚度约为3nm,包覆后的纳米粒子在水溶液中的胶体稳定性提高了5倍,SiO2在羟基磷灰石表面的吸附符合异质凝结机制。
王洪新1,陈晓明2,王友法1,程东霁3
1. 武汉理工大学生物材料与工程研究中心2. 广州医学院生物医学工程系3. 皖西学院机械与电子工程学院
摘 要:采用正硅酸乙酯(TEOS)水解法在羟基磷灰石粉体表面包覆SiO2进行表面改性,并通过扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、红外(FT-IR)、zeta电位和沉降实验等对样品的晶体结构、颗粒形貌进行了表征,结果表明涂层厚度约为3nm,包覆后的纳米粒子在水溶液中的胶体稳定性提高了5倍,SiO2在羟基磷灰石表面的吸附符合异质凝结机制。
关键词:羟基磷灰石;表面修饰;正硅酸乙酯;纳米粒子;