电沉积Co-Mo-P磁性薄膜的结构及磁性能研究（英文）

来源期刊：稀有金属材料与工程2010年第S2期

论文作者：葛洪良 余云丹 卫国英 吴琼

文章页码：48 - 51

关键词：Co-Mo-P;磁性薄膜;电化学沉积;微结构;

摘    要：通过电化学沉积方法制备了Co-Mo-P磁性薄膜。对电化学沉积速率、薄膜成分、微结构及磁性能进行了研究。结果表明,镀液温度是影响Co-Mo-P电化学沉积的主要因素。薄膜组成对Co-Mo-P的微结构及磁性能有很大影响。当次磷酸钠的浓度从0mol/L增到0.05mol/L时,在XRD图谱上观察到相变。在沉积电流密度为20mA/cm2,沉积温度为40℃,薄膜中P含量为6.05at%（[H2PO2-]=0.02mol/L）时,得到的薄膜饱和磁化强度为139（A·m2）/kg,矫顽力为6926Am-1。在此条件下所制备的薄膜具有良好的软磁性。