脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性
来源期刊：材料科学与工程学报2005年第1期
论文作者：骆苏华 高伟健 李亚东
关键词：PLD技术; Ti50Ni36Cu14; 合金薄膜; 成分均匀性;
摘 要：采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD技术制备的Ti50Ni36Cu14合金薄膜成分均匀性较好,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体.采用本工艺获得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分为47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.
骆苏华1，高伟健2，李亚东3
(1.中科院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050;
2.苏州大学分析测试中心,江苏,苏州,215006;
3.苏州大学材料科学工程学院,江苏,苏州,215021)
摘要:采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD技术制备的Ti50Ni36Cu14合金薄膜成分均匀性较好,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体.采用本工艺获得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分为47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.
关键词:PLD技术; Ti50Ni36Cu14; 合金薄膜; 成分均匀性;
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