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低温下旋转喷涂法制备Co0.6Fe2.4O4铁氧体纳米薄膜的结构与磁性

来源期刊:磁性材料及器件2008年第2期

论文作者:高原 周栋 王学文 李发伸 郑虹

关键词:钴铁氧体纳米薄膜; 旋转喷涂; 结构; 磁性;

摘    要:采用旋转喷涂法在低温下成功制备出结晶完整、无杂相的Co铁氧体纳米薄膜,并研究了反应温度、平台转速等实验参数对铁氧体薄膜制备及性能的影响.分别采用扫描电子显微镜,X射线衍射仪|振动样品磁强计和原子吸收光谱仪来表征样品的形貌、晶体结构、宏观磁性以及薄膜成分.实验发现,反应温度控制在90℃以上时,薄膜生长的反应才能进行完全,且适宜的平台转速为150 r/min.在该条件下得到成分为Co0.6Fe2.4O4纳米薄膜的饱和磁化强度接近370 kA/m,矩形比接近0.6,垂直膜面的矫顽力约为215 kA/m.

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低温下旋转喷涂法制备Co0.6Fe2.4O4铁氧体纳米薄膜的结构与磁性

高原1,周栋1,王学文1,李发伸1,郑虹1

(1.兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,应用磁学研究所,甘肃兰州,730000)

摘要:采用旋转喷涂法在低温下成功制备出结晶完整、无杂相的Co铁氧体纳米薄膜,并研究了反应温度、平台转速等实验参数对铁氧体薄膜制备及性能的影响.分别采用扫描电子显微镜,X射线衍射仪|振动样品磁强计和原子吸收光谱仪来表征样品的形貌、晶体结构、宏观磁性以及薄膜成分.实验发现,反应温度控制在90℃以上时,薄膜生长的反应才能进行完全,且适宜的平台转速为150 r/min.在该条件下得到成分为Co0.6Fe2.4O4纳米薄膜的饱和磁化强度接近370 kA/m,矩形比接近0.6,垂直膜面的矫顽力约为215 kA/m.

关键词:钴铁氧体纳米薄膜; 旋转喷涂; 结构; 磁性;

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