简介概要

离子束辅助沉积铂碳混合膜及其抑制栅电子发射性能

来源期刊:功能材料与器件学报2008年第4期

论文作者:柳襄怀 冯涛 王曦 江炳尧

关键词:离子束辅助沉积; 铂碳混合膜; 栅电子发射;

摘    要:采用离子束辅助沉积技术,在硅、钼衬底上分别制备铂碳混合膜.XRD的分析结果表明,当铂碳混合膜中铂的组份较多时,有较强的铂(111)面衍射峰和较弱的铂(200)面衍射峰,铂的组份呈(111)择优取向.Raman谱的分析结果表明,碳基本上呈非晶状态.模拟二极管的实验表明,在纯钼阳极上镀覆铂碳混合膜,其抑制热电子发射的性能明显优于纯钼阳极.

详情信息展示

离子束辅助沉积铂碳混合膜及其抑制栅电子发射性能

柳襄怀1,冯涛2,王曦1,江炳尧1

(1.中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050;
2.纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,华东师范大学,上海,200062)

摘要:采用离子束辅助沉积技术,在硅、钼衬底上分别制备铂碳混合膜.XRD的分析结果表明,当铂碳混合膜中铂的组份较多时,有较强的铂(111)面衍射峰和较弱的铂(200)面衍射峰,铂的组份呈(111)择优取向.Raman谱的分析结果表明,碳基本上呈非晶状态.模拟二极管的实验表明,在纯钼阳极上镀覆铂碳混合膜,其抑制热电子发射的性能明显优于纯钼阳极.

关键词:离子束辅助沉积; 铂碳混合膜; 栅电子发射;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号