图形化表面TiO2薄膜的制备及其对内皮细胞附着形态的影响
来源期刊：功能材料与器件学报2008年第3期
论文作者：王向晖 刘恩庆 胡石琼 余文娟 史芹
关键词：光刻; 反应离子刻蚀; 溶胶凝胶法; 图形化表面TiO2薄膜; 细胞附着;
摘 要：采用光刻技术和反应离子刻蚀法(RIE)先在硅表面制备出一系列平面尺寸不同的微图形阵列,然后采用溶胶凝胶(sol-gel)浸渍提拉法在其表面制备出均匀致密、表面粗糙度一致的锐钛矿型纳米晶TiO2薄膜.利用扫描电镜(SEM)和免疫荧光标记实验研究图形尺寸对人脐静脉内皮细胞(HUVEC)附着形态的影响.实验结果发现在化学成分、细胞毒性、表面粗糙度都不对细胞附着形态产生影响的条件下,HUVEC对图形尺寸的响应为:当平面空间足够时细胞的附着伸展性能较好,而当没有足够的平面空间时细胞的附着伸展性能较差.
王向晖1，刘恩庆1，胡石琼1，余文娟1，史芹1
(1.华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室,物理系,上海,200062)
摘要:采用光刻技术和反应离子刻蚀法(RIE)先在硅表面制备出一系列平面尺寸不同的微图形阵列,然后采用溶胶凝胶(sol-gel)浸渍提拉法在其表面制备出均匀致密、表面粗糙度一致的锐钛矿型纳米晶TiO2薄膜.利用扫描电镜(SEM)和免疫荧光标记实验研究图形尺寸对人脐静脉内皮细胞(HUVEC)附着形态的影响.实验结果发现在化学成分、细胞毒性、表面粗糙度都不对细胞附着形态产生影响的条件下,HUVEC对图形尺寸的响应为:当平面空间足够时细胞的附着伸展性能较好,而当没有足够的平面空间时细胞的附着伸展性能较差.
关键词:光刻; 反应离子刻蚀; 溶胶凝胶法; 图形化表面TiO2薄膜; 细胞附着;
【全文内容正在添加中】
