新型有机蒙脱土的制备、结构表征及其分散性

赵亚彬¹，王毅¹，杨瑞成²，冯辉霞¹

(1.兰州理工大学石油化工学院,兰州,730050;
2.兰州理工大学材料科学与工程学院,兰州,730050)

摘要:采用十六烷基氯化吡啶及乙酸镍对蒙脱土进行了一次、二次插层改性,对样品进行了红外光谱、X射线衍射分析和沉降实验.结果表明两种插层剂均已进入蒙脱土的层间,有机蒙脱土的层间距由1.04 nm增加到2.21 nm,改性蒙脱土在有机介质中表现出很好的分散性.该实验结果证明,利用二次插层扩大层间距和配位作用引入新物质是完全可行的,这一点为利用配位聚合制备复合材料提供了思路.

关键词:有机蒙脱土; 纳米复合材料; 二次插层;

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