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KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中硅离子的还原机理研究

来源期刊:有色金属(冶炼部分)2010年第2期

论文作者:李智慧 李运刚 何小凤

关键词:SiO2; KCl-NaCl-NaF; 循环伏安法; 计时电位法;

摘    要:在KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中,以铂丝为参比电极、研究电极,高纯石墨坩埚为辅助电极,采用循环伏安法和计时电位法对硅离子的还原机理进行了研究,结果表明此电化学反应为扩散控制的不可逆电极过程;求得硅离子在熔盐中的扩散系数D=1.33×10-3 cm2/s(CSi4+=1.21×10-4 mol/cm3,T=1 073 K).

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KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中硅离子的还原机理研究

李智慧1,李运刚1,何小凤1

(1.河北理工大学,河北,唐山,063009)

摘要:在KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中,以铂丝为参比电极、研究电极,高纯石墨坩埚为辅助电极,采用循环伏安法和计时电位法对硅离子的还原机理进行了研究,结果表明此电化学反应为扩散控制的不可逆电极过程;求得硅离子在熔盐中的扩散系数D=1.33×10-3 cm2/s(CSi4+=1.21×10-4 mol/cm3,T=1 073 K).

关键词:SiO2; KCl-NaCl-NaF; 循环伏安法; 计时电位法;

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