纳米结构FePt薄膜的结构与磁性研究
来源期刊：功能材料与器件学报2005年第4期
论文作者：展晓元 张跃 顾有松 张大勇
关键词：记录介质; 结构观察; 磁性能; 热处理;
摘 要：采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了纳米结构的Fex Pt100-x(x=30at%～60at%)薄膜.高温XRD分析表明,薄膜在500℃热处理有明显的面心立方FCC结构向面心四方FCT结构转变. 通过VSM、AFM对薄膜样品的磁性检测和晶粒尺度的观察,FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400～500℃,在这个热处理温度范围内,薄膜软硬磁耦合较好,矫顽力适当(306kA/m),晶粒尺寸约为10nm,适合于做高密度磁记录介质材料.
展晓元1，张跃1，顾有松1，张大勇1
(1.北京科技大学材料学院材料物理与化学系,北京,100083)
摘要:采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了纳米结构的Fex Pt100-x(x=30at%～60at%)薄膜.高温XRD分析表明,薄膜在500℃热处理有明显的面心立方FCC结构向面心四方FCT结构转变. 通过VSM、AFM对薄膜样品的磁性检测和晶粒尺度的观察,FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400～500℃,在这个热处理温度范围内,薄膜软硬磁耦合较好,矫顽力适当(306kA/m),晶粒尺寸约为10nm,适合于做高密度磁记录介质材料.
关键词:记录介质; 结构观察; 磁性能; 热处理;
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