氨络合物体系中镍在玻璃碳上的电化学成核机理
来源期刊：材料科学与工程学报2003年第6期
论文作者：郑利峰 张九渊 曹华珍 郑国渠
关键词：镍电沉积; 电结晶; 氨络合物,成核;
摘 要：采用循环伏安法和计时电流法研究了氨络合物体系中镍在玻璃碳上电结晶的初期行为.结果表明,镍在该基体上的沉积没有经历UPD过程,镍的电沉积经历了晶核形成过程,在所研究的外加电位范围内其电结晶按连续成核和三维生长方式进行,外加电位对晶体生长具有显著的影响.通过分析恒电位暂态曲线,求出镍离子的扩散系数D,以及不同外加电位下的饱和晶核数密度Nsat,探讨了外加电位对成核作用的影响.
郑利峰1，张九渊1，曹华珍1，郑国渠1
(1.浙江工业大学材料科学与工程研究所,浙江,杭州,310014)
摘要:采用循环伏安法和计时电流法研究了氨络合物体系中镍在玻璃碳上电结晶的初期行为.结果表明,镍在该基体上的沉积没有经历UPD过程,镍的电沉积经历了晶核形成过程,在所研究的外加电位范围内其电结晶按连续成核和三维生长方式进行,外加电位对晶体生长具有显著的影响.通过分析恒电位暂态曲线,求出镍离子的扩散系数D,以及不同外加电位下的饱和晶核数密度Nsat,探讨了外加电位对成核作用的影响.
关键词:镍电沉积; 电结晶; 氨络合物,成核;
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