磁控溅射不同Cr含量Ta-Cr-N薄膜力学及摩擦学性能研究（英文）
来源期刊：稀有金属材料与工程2012年第S2期
论文作者：刘星 马国佳 张林 孙刚 段玉平 刘顺华
文章页码：777 - 780
关键词：磁控溅射;Ta-Cr-N薄膜;Cr含量;力学性能;磨损;
摘 要：使用Cr,Ta靶材,采用反应磁控溅射制备了不同Cr含量的Ta-Cr-N薄膜,对不同薄膜的化学结构、力学性能、耐磨性进行了分析比较。XRD、SEM、EDS、纳米压痕、球盘摩擦及划痕试验被用于测试薄膜的结构及力学性能。在TaN薄膜中掺杂Cr导致晶格常数及薄膜晶粒大小的降低。当Cr含量增加时,薄膜硬度,结合力及耐磨性都有所改善。当Ta-Cr-N薄膜中Cr含量达到29.5%时,薄膜显示了最高的硬度,最小的晶粒及最低的磨损率。
刘星1,2，马国佳1,2，张林1,2，孙刚2，段玉平1，刘顺华2
1. 大连理工大学2. 北京航空制造工程研究所
摘 要：使用Cr,Ta靶材,采用反应磁控溅射制备了不同Cr含量的Ta-Cr-N薄膜,对不同薄膜的化学结构、力学性能、耐磨性进行了分析比较。XRD、SEM、EDS、纳米压痕、球盘摩擦及划痕试验被用于测试薄膜的结构及力学性能。在TaN薄膜中掺杂Cr导致晶格常数及薄膜晶粒大小的降低。当Cr含量增加时,薄膜硬度,结合力及耐磨性都有所改善。当Ta-Cr-N薄膜中Cr含量达到29.5%时,薄膜显示了最高的硬度,最小的晶粒及最低的磨损率。
关键词：磁控溅射;Ta-Cr-N薄膜;Cr含量;力学性能;磨损;
