磁控溅射法中添加氢气对制备立方氮化硼厚膜的影响
来源期刊:超硬材料工程2016年第5期
论文作者:赵艳 殷红 李红东
文章页码:22 - 26
关键词:立方氮化硼;射频磁控溅射;偏压;厚膜;
摘 要:采用两步沉积法利用射频磁控溅射手段在p型硅片<100>面上生长立方氮化硼(c-BN)厚膜,在常规的氩气和氮气混合工作气体中加入了氢气,并研究了不同氢气流量比、衬底温度以及衬底偏压等工作参数对c-BN膜的立方相含量和沉积速率的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)及X射线衍射谱(XRD)对所制得的c-BN膜进行了表征和分析。实验结果表明,在衬底负偏压为-100V和氢气流量为7.5cm3/min时,所制得的c-BN膜立方相含量高于90%,且稳定性最佳,厚度可达4微米以上,为c-BN膜在工业保护涂层等方面的应用奠定了良好基础。
赵艳,殷红,李红东
吉林大学超硬材料国家重点实验室
摘 要:采用两步沉积法利用射频磁控溅射手段在p型硅片<100>面上生长立方氮化硼(c-BN)厚膜,在常规的氩气和氮气混合工作气体中加入了氢气,并研究了不同氢气流量比、衬底温度以及衬底偏压等工作参数对c-BN膜的立方相含量和沉积速率的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)及X射线衍射谱(XRD)对所制得的c-BN膜进行了表征和分析。实验结果表明,在衬底负偏压为-100V和氢气流量为7.5cm3/min时,所制得的c-BN膜立方相含量高于90%,且稳定性最佳,厚度可达4微米以上,为c-BN膜在工业保护涂层等方面的应用奠定了良好基础。
关键词:立方氮化硼;射频磁控溅射;偏压;厚膜;