HFCVD金刚石薄膜表面的氨基修饰方法
来源期刊：功能材料2010年第1期
论文作者：安云玲 常明
关键词：金刚石薄膜; 化学修饰; 氨基; X射线光电子能谱(XPS); 应用; diamond film; chemical modification; amido; XPS; application;
摘 要：金刚石是一种集多种优良性能于一体的功能材料,但是,金刚石薄膜sp~3碳构造的高稳定性导致其表面活性不足,无法满足各种功能性表面的需要.本文从化学修饰角度,概括和总结了氨基在金刚石薄膜表面导入的一种新的简单方法,并对修饰后的金刚石表面进行了XPS表征.结果表明,氨基已成功的修饰到了金刚石薄膜表面.最后对氨基修饰后的金刚石薄膜的应用做了简单的介绍.
安云玲1，常明1
(1.天津理工大学,电子信息工程学院,天津市薄膜电子与通信器件重点实验室,天津,300384)
摘要:金刚石是一种集多种优良性能于一体的功能材料,但是,金刚石薄膜sp~3碳构造的高稳定性导致其表面活性不足,无法满足各种功能性表面的需要.本文从化学修饰角度,概括和总结了氨基在金刚石薄膜表面导入的一种新的简单方法,并对修饰后的金刚石表面进行了XPS表征.结果表明,氨基已成功的修饰到了金刚石薄膜表面.最后对氨基修饰后的金刚石薄膜的应用做了简单的介绍.
关键词:金刚石薄膜; 化学修饰; 氨基; X射线光电子能谱(XPS); 应用; diamond film; chemical modification; amido; XPS; application;
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