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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铝硅活塞合金中镧铈镨钕钇

来源期刊:冶金分析2018年第4期

论文作者:于英杰 孙莹 马洪波

文章页码:69 - 73

关键词:电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES);铝硅活塞合金;镧;铈;镨;钕;钇;

摘    要:采用硝酸和氢氟酸溶解样品,高氯酸冒烟赶氟避免生成氟化稀土沉淀,选择La333.749nm、Ce 456.236nm、Pr 417.939nm、Nd 406.109nm及Y 371.030nm作为分析线,扣除背景点消除基体干扰,运用干扰系数法克服谱线间干扰,通过基体匹配法配制标准溶液系列消除基体效应的影响,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定铝硅活塞合金中镧、铈、镨、钕和钇。结果表明:镧、铈的测定范围在0.01%2.00%,镨、钕、钇的测定范围在0.005%2.00%,校准曲线线性相关系数不小于0.999 8。方法中各元素检出限为0.000 3%0.001 8%。实验方法用于测定稀土铝合金合成试样中镧、铈、镨、钕和钇,结果的相对标准偏差(RSD,n=6)在0.50%2.4%之间,加标回收率在94%105%之间。实验方法用于含有稀土的铝合金标准样品中镧、铈、镨、钕和钇的测定,结果与电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定值相吻合,测定的稀土总量RE与认定值也相吻合。

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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铝硅活塞合金中镧铈镨钕钇

于英杰,孙莹,马洪波

中国科学院金属研究所

摘 要:采用硝酸和氢氟酸溶解样品,高氯酸冒烟赶氟避免生成氟化稀土沉淀,选择La333.749nm、Ce 456.236nm、Pr 417.939nm、Nd 406.109nm及Y 371.030nm作为分析线,扣除背景点消除基体干扰,运用干扰系数法克服谱线间干扰,通过基体匹配法配制标准溶液系列消除基体效应的影响,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定铝硅活塞合金中镧、铈、镨、钕和钇。结果表明:镧、铈的测定范围在0.01%2.00%,镨、钕、钇的测定范围在0.005%2.00%,校准曲线线性相关系数不小于0.999 8。方法中各元素检出限为0.000 3%0.001 8%。实验方法用于测定稀土铝合金合成试样中镧、铈、镨、钕和钇,结果的相对标准偏差(RSD,n=6)在0.50%2.4%之间,加标回收率在94%105%之间。实验方法用于含有稀土的铝合金标准样品中镧、铈、镨、钕和钇的测定,结果与电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定值相吻合,测定的稀土总量RE与认定值也相吻合。

关键词:电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES);铝硅活塞合金;镧;铈;镨;钕;钇;

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