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反应离子束溅射沉积和还原退火工艺制备VOx多晶薄膜

来源期刊：材料开发与应用2004年第6期

论文作者：陈四海易新建王双保周少波

关键词：氧化钒薄膜; 微测辐射热计; 反应离子束溅射; 制备参量;

摘要：通过反应离子溅射沉积和后退火工艺制备出优质微测辐射热计用的氧化钒薄膜.对薄膜退火前后进行了扫描电子显微镜分析,结果表明,制备的VOx多晶薄膜致密均匀,退火后晶粒尺寸变大.电学测试表明,在室温时薄膜的方块电阻约为50kΩ,电阻温度系数为-0.022/K,满足制作高性能微测辐射热计的要求.

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陈四海¹，易新建¹，王双保¹，周少波¹

(1.华中科技大学光电子工程系,湖北,武汉,430074)

摘要:通过反应离子溅射沉积和后退火工艺制备出优质微测辐射热计用的氧化钒薄膜.对薄膜退火前后进行了扫描电子显微镜分析,结果表明,制备的VOx多晶薄膜致密均匀,退火后晶粒尺寸变大.电学测试表明,在室温时薄膜的方块电阻约为50kΩ,电阻温度系数为-0.022/K,满足制作高性能微测辐射热计的要求.

关键词:氧化钒薄膜; 微测辐射热计; 反应离子束溅射; 制备参量;

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