高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层
来源期刊：功能材料2017年第6期
论文作者：张丽 齐海涛 徐永宽 王利杰 史月增 刘金鑫
文章页码：6183 - 12378
关键词：高温CVD;TaC涂层;工艺条件;
摘 要：采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层。通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层。
张丽，齐海涛，徐永宽，王利杰，史月增，刘金鑫
中国电子科技集团公司第四十六研究所
摘 要：采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层。通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层。
关键词：高温CVD;TaC涂层;工艺条件;
